用直流溅射工艺制备的氧化铌薄膜的性能
来源期刊：材料研究学报2002年第5期
论文作者：胡行方 黄银松 章俞之
关键词：微观结构; 表面形貌; 氧化铌薄膜; 直流反应溅射; 电致变色;
摘 要：采用直流反应溅射工艺制备了氧化铌(Nb2O5)薄膜,用XRD、AFM、AES和循环伏安等测试手段分析并研究了薄膜的组成、结构、表面形貌和电致变色性能间的关系.结果表明:在基底加热条件下可获得晶态TT-Nb2O5薄膜,沉积气压较高时的薄膜具有沿(100)面定向生长、结构相对较为疏松的柱状结构,这种薄膜具有良好的电化学稳定性,锂离子注入/抽出可逆性好,并具有灰色变色特性,在可见区(波长600 nm)的透过率调制幅度为35%.
胡行方1，黄银松1，章俞之1
(1.中国科学院上海硅酸盐研究所)
摘要:采用直流反应溅射工艺制备了氧化铌(Nb2O5)薄膜,用XRD、AFM、AES和循环伏安等测试手段分析并研究了薄膜的组成、结构、表面形貌和电致变色性能间的关系.结果表明:在基底加热条件下可获得晶态TT-Nb2O5薄膜,沉积气压较高时的薄膜具有沿(100)面定向生长、结构相对较为疏松的柱状结构,这种薄膜具有良好的电化学稳定性,锂离子注入/抽出可逆性好,并具有灰色变色特性,在可见区(波长600 nm)的透过率调制幅度为35%.
关键词:微观结构; 表面形貌; 氧化铌薄膜; 直流反应溅射; 电致变色;
【全文内容正在添加中】
