Ce掺杂羟基铁插层蒙脱石的光催化性能研究

来源期刊：矿物学报2012年第4期

论文作者：吴平霄 李海玲

文章页码：461 - 467

关键词：羟基铁;铈;光催化;插层蒙脱石;光助Fenton;

摘    要：使用离子交换的方式制备了掺杂Ce的羟基铁插层蒙脱石,通过X射线粉末衍射分析（XRD）、红外光谱（FTIR）、X射线电子能谱（XPS）以及BET比表面积分析等测试手段对催化剂进行了表征。在不同实验条件下,使用插层蒙脱石作为异相光助Fenton试剂,考查了催化剂在紫外光条件下降解活性艳蓝的光催化性能。实验结果表明,掺杂Ce能明显提高羟基铁插层蒙脱石的光催化效率。在活性艳蓝（KN-R）初始质量浓度ρ0（KN-R）=75mg/L,pH=3.0,H2O2初始浓度[H2O2]0=4.9mmol/L条件下,t=100min时,掺杂2%Ce的铁插层蒙脱石对活性艳蓝的降解率为99.5%。实验结果结合化学结构的分析表征探讨了Ce对催化效果的影响。