原子氧对聚酰亚胺表面侵蚀及有机硅涂层保护
来源期刊：腐蚀科学与防护技术2002年第2期
论文作者：童静宇 孙刚 曹楚南 李美栓 屈庆 张蕾 严川伟
关键词：Kapton 原子氧(AO) 降解 防护;
摘 要：用光电子能谱(XPS)、红外光谱(FTIR)和扫描电镜(SEM)研究有和无有机硅涂层的聚酰亚胺(Kapton)在模拟原子氧(AO)环境中表面所发生的侵蚀作用.结果表明,AO对Kapton有较严重的侵蚀,原来平整的表面形貌变为毛毯状;而所施用的有机硅涂层的表面形貌则变化甚少,表明该涂层具有较明显的防护效果.这种防护作用在于,有机硅涂层表面经AO辐照后生成了致密的氧化硅膜层,对抑制AO的进一步侵蚀起到了关键作用.
童静宇1，孙刚1，曹楚南2，李美栓2，屈庆2，张蕾2，严川伟2
(1.北京卫星环境工程研究所,北京,100029;
2.中国科学院金属研究所金属腐蚀与防护国家重点实验室,沈阳,110016;
3.辽宁大学化学科学与工程学院,沈阳,110036)
摘要:用光电子能谱(XPS)、红外光谱(FTIR)和扫描电镜(SEM)研究有和无有机硅涂层的聚酰亚胺(Kapton)在模拟原子氧(AO)环境中表面所发生的侵蚀作用.结果表明,AO对Kapton有较严重的侵蚀,原来平整的表面形貌变为毛毯状;而所施用的有机硅涂层的表面形貌则变化甚少,表明该涂层具有较明显的防护效果.这种防护作用在于,有机硅涂层表面经AO辐照后生成了致密的氧化硅膜层,对抑制AO的进一步侵蚀起到了关键作用.
关键词:Kapton 原子氧(AO) 降解 防护;
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