基于BiOX(X=Cl、Br、I)新型高性能光催化材料的最新研究进展
来源期刊:无机材料学报2015年第10期
论文作者:刘家琴 吴玉程
文章页码:1009 - 1017
关键词:BiOX(X=Cl、Br、I);半导体;光催化;改性;固载;综述;
摘 要:铋系半导体Bi OX(X=Cl、Br、I)因其独特的层状结构和合适的禁带宽度而表现出优异的光催化活性与稳定性,已成为光催化材料领域极具应用前景的材料体系。本文首先针对Bi OX(X=Cl、Br、I)光催化材料研究中的关键科学问题进行了深入分析,进一步综述了国内外解决上述关键问题所采取的有效措施,包括:微结构调控、半导体复合、贵金属沉积、离子掺杂和表面敏化等,并针对纳米结构Bi OX(X=Cl、Br、I)负载于合适载体上实现固载的研究进展进行了概述,从而对基于Bi OX(X=Cl、Br、I)新型高性能光催化材料的最新研究进展进行了全面深入的综述,最后展望了Bi OX光催化材料的研究方向与趋势。
刘家琴1,2,吴玉程2
1. 合肥工业大学工业与装备技术研究院2. 纳米功能材料与器件安徽省重点实验室
摘 要:铋系半导体Bi OX(X=Cl、Br、I)因其独特的层状结构和合适的禁带宽度而表现出优异的光催化活性与稳定性,已成为光催化材料领域极具应用前景的材料体系。本文首先针对Bi OX(X=Cl、Br、I)光催化材料研究中的关键科学问题进行了深入分析,进一步综述了国内外解决上述关键问题所采取的有效措施,包括:微结构调控、半导体复合、贵金属沉积、离子掺杂和表面敏化等,并针对纳米结构Bi OX(X=Cl、Br、I)负载于合适载体上实现固载的研究进展进行了概述,从而对基于Bi OX(X=Cl、Br、I)新型高性能光催化材料的最新研究进展进行了全面深入的综述,最后展望了Bi OX光催化材料的研究方向与趋势。
关键词:BiOX(X=Cl、Br、I);半导体;光催化;改性;固载;综述;