简介概要

X射线照相缺陷定位方法分析与验证

来源期刊:宇航材料工艺2013年第3期

论文作者:蔡闰生 任华友

文章页码:129 - 133

关键词:X射线;缺陷深度;定位精度;

摘    要:相对于公式法,双标记法解决了焦距和焦点位移测量误差所带来的问题。但此方法在射线检测领域普及程度并不高,其中原因,首先是原理较复杂,针对性研究少,其次是测量精度没有被量化,可信度不高。本文从公式法入手,通过对原理公式的变化分析和线性化分析,明晰了双标记法缺陷深度定位原理,推导了缺陷深度定位公式,利用简化模型,对双标记法的定位精度做了进一步的分析与计算,最后针对具体被检测物,测试验证了双标记法的计算公式和测量精度,用理论和实践证明了方法和精度的可靠性。

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X射线照相缺陷定位方法分析与验证

蔡闰生,任华友

航天材料及工艺研究所

摘 要:相对于公式法,双标记法解决了焦距和焦点位移测量误差所带来的问题。但此方法在射线检测领域普及程度并不高,其中原因,首先是原理较复杂,针对性研究少,其次是测量精度没有被量化,可信度不高。本文从公式法入手,通过对原理公式的变化分析和线性化分析,明晰了双标记法缺陷深度定位原理,推导了缺陷深度定位公式,利用简化模型,对双标记法的定位精度做了进一步的分析与计算,最后针对具体被检测物,测试验证了双标记法的计算公式和测量精度,用理论和实践证明了方法和精度的可靠性。

关键词:X射线;缺陷深度;定位精度;

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