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化学水浴法制备ZnS薄膜光学性能

来源期刊：功能材料与器件学报2007年第3期

论文作者：李禾王应民徐飞蔡莉孙云程国安张萌杜楠

关键词：化学水浴沉积法; ZnS薄膜; 消光系数; 禁带宽度;

摘要：利用薄膜分析系统测量不同沉积时间制备的ZnS薄膜透射谱,通过分析薄膜透射谱,来确定ZnS薄膜光学常数和禁带宽度.实验结果表明,在线性生长阶段,薄膜的沉积速率大约为1 nm/min,具有很好的线性关系,沉积0.5 h的ZnS薄膜在可见光范围内光透过率为82%左右.

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李禾¹，王应民²，徐飞⁴，蔡莉¹，孙云²，程国安⁵，张萌⁴，杜楠¹

(1.南昌航空工业学院材料科学与工程学院,南昌,330034;
2.南开大学信息技术科学学院,天津,300071;
3.天津市光电子薄膜器件与技术重点实验室,天津,300071;
4.南昌大学材料科学与工程学院,南昌,330047;
5.北京师范大学材料系,北京,100871)

摘要:利用薄膜分析系统测量不同沉积时间制备的ZnS薄膜透射谱,通过分析薄膜透射谱,来确定ZnS薄膜光学常数和禁带宽度.实验结果表明,在线性生长阶段,薄膜的沉积速率大约为1 nm/min,具有很好的线性关系,沉积0.5 h的ZnS薄膜在可见光范围内光透过率为82%左右.

关键词:化学水浴沉积法; ZnS薄膜; 消光系数; 禁带宽度;

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