简介概要

CVD在铱涂层和薄膜制备中的应用

来源期刊：贵金属2002年第1期

论文作者：邓德国胡昌义李靖华高逸群尹志民

关键词：化学气相沉积; 铱; 涂层; 薄膜;

摘要：简要介绍化学气相沉积(CVD)技术的一般原理,评述CVD在贵金属铱涂层和薄膜制备方面的应用状况,主要包括:①制备石墨和难熔金属的铱保护涂层;②在石墨和陶瓷基体上沉积铱薄膜.

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邓德国¹，胡昌义¹，李靖华¹，高逸群¹，尹志民²

(1.贵研铂业股份有限公司,中国昆明,650221;
2.中南工业大学,中国长沙,410083)

摘要:简要介绍化学气相沉积(CVD)技术的一般原理,评述CVD在贵金属铱涂层和薄膜制备方面的应用状况,主要包括:①制备石墨和难熔金属的铱保护涂层;②在石墨和陶瓷基体上沉积铱薄膜.

关键词:化学气相沉积; 铱; 涂层; 薄膜;

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