磁控溅射制备Ru-B薄膜的研究

来源期刊：贵金属2013年第2期

论文作者：殷聪朋 管伟明 张俊敏 刘洪江 陈勇 张昆华

文章页码：5 - 23

关键词：金属材料;超硬薄膜;磁控溅射;Ru-B薄膜;表面形貌;

摘    要：采用射频磁控溅射技术制备了Ru-B薄膜,利用掠入射X射线衍射（GIXRD）、高分辨透射电子显微镜（HRTEM）、原子力显微镜（AFM）等分析技术对薄膜的相结构、沉积速率以及表面形貌进行了研究分析。结果表明:在室温下制备的Ru-B薄膜均为非晶态。薄膜的沉积速率不随溅射时间变化,但随溅射功率的增加而增大。薄膜表面光滑致密质量良好,随着溅射时间的延长,薄膜表面晶粒大小和粗糙度增大。溅射功率影响着基片表面粒子的形核长大和迁移扩散速率,进而影响薄膜的表面形貌。