溶胶-凝胶法与磁控溅射法制备ZnO薄膜性能对比研究
来源期刊：材料导报2008年增刊第1期
论文作者：李海峰 薛钰芝 申琳 李剑峰 沈长斌
关键词：溶胶-凝胶法; 射频磁控溅射; ZnO薄膜;
摘 要：分别采用溶胶-凝胶(Sol-gel)法和射频(RF)反应磁控溅射法在普通玻璃片上制备出ZnO薄膜,利用X射线衍射、扫描电子显微镜、分光光度计、台阶仪等检测手段分别对其进行了分析比较.结果表明:相同基底和退火温度下,RF磁控溅射法制备的ZnO薄膜具有更优异的晶化质量;在波长390～850nm范围内的透射率都在80%以上,薄膜的吸收长波限值分别约为375nm和390nm,计算出其禁带宽度分别为3.31eV和3.18eV.
李海峰1，薛钰芝1，申琳1，李剑峰1，沈长斌1
(1.大连交通大学材料科学与工程学院,大连,116028)
摘要:分别采用溶胶-凝胶(Sol-gel)法和射频(RF)反应磁控溅射法在普通玻璃片上制备出ZnO薄膜,利用X射线衍射、扫描电子显微镜、分光光度计、台阶仪等检测手段分别对其进行了分析比较.结果表明:相同基底和退火温度下,RF磁控溅射法制备的ZnO薄膜具有更优异的晶化质量;在波长390～850nm范围内的透射率都在80%以上,薄膜的吸收长波限值分别约为375nm和390nm,计算出其禁带宽度分别为3.31eV和3.18eV.
关键词:溶胶-凝胶法; 射频磁控溅射; ZnO薄膜;
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