直流磁控溅射法制备PEN/Ti复合振膜

来源期刊：功能材料2018年第5期

论文作者：丁雨田 陈建军 高钰璧 许佳玉 孟斌 马元俊

文章页码：5169 - 10352

关键词：复合振膜;弹性模量;磁控溅射;工艺参数;

摘    要：采用直流磁控溅射法在聚2,6-萘乙酸乙二醇酯（PEN）柔性薄膜衬底上制备了纯钛薄膜。研究了溅射气压与溅射功率对薄膜微观组织及硬度的影响,确定了最佳的溅射工艺参数。研究表明,直流磁控溅射法在PEN柔性衬底上沉积的钛膜是一种纳米薄膜且为多晶薄膜;在溅射气压为8.5×10^-1 Pa、溅射功率为140 W时,直流磁控溅射法制备的钛镀层晶粒尺寸细小且均匀分布在衬底上,镀层硬度高,复合振膜宏观表面平整,结合力良好,此工艺参数为最佳的工艺参数,薄膜沉积速率为2.11nm/s。