胶束增敏荧光光度法测定土霉素的研究

来源期刊：分析试验室2002年第4期

论文作者：马红燕 张社争 曹岁平 李烽

文章页码：43 - 45

关键词：土霉素;表面活性剂;酸性降解;荧光法;

摘    要：提出了表面活性剂增敏的酸性降解荧光法测定土霉素的新方法。土霉素与浓H2SO4反应,生成强荧光降解物一脱水土霉素,在pH10.0的NH3 NH4Cl缓冲溶液中,CTMAB的存在对脱水土霉素的荧光有较强的增敏和增稳作用,土霉素含量在1.21×10-8mol/L～4.83×10-6mol/L范围内与荧光强度成正比,方法的检出限为6 66×10-9mol/L。应用本法测定片剂中的土霉素,平均回收率为99.6%（n=5）。