硬质涂层用镀膜靶材的研究

梁俊才^1,2,3，穆健刚^1,2，张凤戈^1,2,3，周武平^1,2,3，赵海波⁴

1. 钢铁研究总院2. 安泰科技股份有限公司4. 四川大学分析测试中心

摘 要：镀膜靶材作为物理气相沉积方法制备薄膜的沉积源材料,广泛应用于机械加工、半导体集成电路、磁记录和平面显示等产业中。在机械加工产业中,硬质涂层提高了部件的机械加工效率、延长了部件的使用寿命,具有很高的经济效益。物理气相沉积过程中,镀膜靶材以溅射或弧蒸发的方式制备硬质涂层,其质量好坏将直接影响硬质涂层的物理及力学性能,是涂层技术的重要组成部分。本文对用于制备硬质涂层镀膜靶材的种类、技术要求、制备方法和研究现状做了概述。

关键词：硬质涂层;靶材;溅射;弧蒸发;