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改性SU8光刻胶的光学特性及其工艺

来源期刊：功能材料与器件学报2009年第3期

论文作者：刘景全蒋宏民陈迪朱军陈翔

关键词：最小曝光剂量; PAG; 集成制造;

摘要：通过改变SU-8光刻胶中PAG浓度获得含不同PAG浓度的各种改性SU-8光刻胶,在对其光学性能以及最小曝光剂量的测定基础上研究改性SU-8光刻胶的光刻工艺,借助于改性SU-8光刻胶的合理设计以及背面曝光和正面曝光的结合应用提高多元材料复杂结构的集成制造能力.

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刘景全¹，蒋宏民¹，陈迪¹，朱军¹，陈翔¹

(1.上海交通大学微纳技术研究院,微米纳米加工技术国家重点实验室,薄膜与微细技术教育部重点实验室,上海,200030)

摘要:通过改变SU-8光刻胶中PAG浓度获得含不同PAG浓度的各种改性SU-8光刻胶,在对其光学性能以及最小曝光剂量的测定基础上研究改性SU-8光刻胶的光刻工艺,借助于改性SU-8光刻胶的合理设计以及背面曝光和正面曝光的结合应用提高多元材料复杂结构的集成制造能力.

关键词:最小曝光剂量; PAG; 集成制造;

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