磨粒分布对轨迹非均匀性影响的理论分析

来源期刊：超硬材料工程2017年第4期

论文作者：刘冲 方从富 赵再兴

文章页码：27 - 31

关键词：轨迹分析;研磨抛光;非均匀性;磨粒分布;

摘    要：轨迹分析方法是衡量研磨抛光过程中材料去除非均匀性的一种重要研究手段,通过对研磨抛光过程进行磨粒运动轨迹分析,可以为其工艺参数的优化选取提供重要参考依据。文章采用轨迹分析方法,基于轨迹分布非均匀性的量化指标,对研磨抛光工具表面的不同磨粒分布进行分析。从磨粒在工具表面的均匀、统计、周向、径向分布等角度揭示磨粒分布对轨迹分布非均匀性的影响规律,为研磨抛光过程中工具的磨粒分布设计和工艺参数优化提供理论依据。