PECVD法玻璃容器内壁沉积SiO₂薄膜的SEM表征

来源期刊：材料科学与工程学报2015年第5期

论文作者：朱恒伟 李文杰 吕斌 吕建国

文章页码：666 - 670

关键词：PECVD;玻璃容器;内壁镀膜;SiO2薄膜;SEM表征;

摘    要：采用自主研制的等离子体增强化学气相沉积(PECVD)专用设备,在玻璃容器内壁沉积SiO2薄膜,用作阻隔涂层。通过设计沉积工艺,在不同的气体流量比例、工作气压和生长时间等生长条件下制备出SiO2薄膜;通过扫描电子显微镜(SEM)测试表征薄膜的形貌和结构,评价薄膜的性能。根据表征结果分析了各种工艺参数对薄膜性能的影响,获得了较为优化的工艺参数,在玻璃容器内壁制备出较高质量的SiO2薄膜。