退火对溅射ZnO薄膜的形貌和内应力的影响
来源期刊：功能材料与器件学报2006年第2期
论文作者：徐芸芸 骆心怡 常春荣 周衡志 李子全
关键词：ZnO薄膜; 退火; 形貌; 内应力;
摘 要：用超高真空射频磁控溅射技术制备了高C轴取向的ZnO薄膜,用扫描电镜和X射线衍射仪分别研究了退火对ZnO薄膜形貌和内应力的影响.结果表明:适当温度退火后薄膜的形貌和内应力得到改善,通过增氧、缺陷原子的热激活和晶粒融合等可以有效地降低薄膜中由热效应、缺陷效应和粒子注入效应等引起的张应力,薄膜组织致密化并且柱状晶粒取向趋于一致.450℃退火的ZnO薄膜具有最低的张应力和最佳的结晶质量.
徐芸芸1，骆心怡1，常春荣1，周衡志1，李子全1
(1.南京航空航天大学,材料科学与技术学院,南京210016)
摘要:用超高真空射频磁控溅射技术制备了高C轴取向的ZnO薄膜,用扫描电镜和X射线衍射仪分别研究了退火对ZnO薄膜形貌和内应力的影响.结果表明:适当温度退火后薄膜的形貌和内应力得到改善,通过增氧、缺陷原子的热激活和晶粒融合等可以有效地降低薄膜中由热效应、缺陷效应和粒子注入效应等引起的张应力,薄膜组织致密化并且柱状晶粒取向趋于一致.450℃退火的ZnO薄膜具有最低的张应力和最佳的结晶质量.
关键词:ZnO薄膜; 退火; 形貌; 内应力;
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