简介概要

C、Hf薄膜抑制栅极电子发射的机理研究

来源期刊：功能材料2005年增刊第1期

论文作者：柳襄怀诸葛兰剑吴雪梅

关键词：栅发射; C薄膜; Hf薄膜; BaO;

摘要：利用双离子束溅射和射频磁控溅射技术在Mo基底上分别制备了C膜和Hf膜,并利用化学方法制备了BaO涂层以模拟行波管栅极结构,随后在N2保护下,通过在900～1300K范围内退火,研究样品处于高温工作环境下表面相结构和成分的变化,以此解释了C、Hf薄膜抑制栅极电子发射的工作机理.

详情信息展示

柳襄怀¹，诸葛兰剑²，吴雪梅²

(1.中国科学院,上海微系统与信息技术研究所,上海,200050;
2.苏州大学,物理系,江苏省薄膜材料重点实验室,江苏,苏州,215006)

摘要:利用双离子束溅射和射频磁控溅射技术在Mo基底上分别制备了C膜和Hf膜,并利用化学方法制备了BaO涂层以模拟行波管栅极结构,随后在N2保护下,通过在900～1300K范围内退火,研究样品处于高温工作环境下表面相结构和成分的变化,以此解释了C、Hf薄膜抑制栅极电子发射的工作机理.

关键词:栅发射; C薄膜; Hf薄膜; BaO;

【全文内容正在添加中】