钛表面电弧离子镀沉积钯膜层的研究
来源期刊：稀有金属材料与工程2007年第12期
论文作者：李争显 张跃飞 王宝云 徐重 严鹏 王少鹏
关键词：钛表面; 电弧离子镀; 钯膜层; 性能;
摘 要：利用电子显微镜、X射线衍射仪、显微硬度试验机等分析手段,对采用焊接复合式靶材,在钛表面沉积出的钯膜层进行分析研究.结果表明:钯膜层具有电弧离子镀典型特征,膜层的厚度为1.2～2 μm,膜层致密.提高膜层的沉积温度使膜层与基体之间生成Ti4Pd相.膜层的表面硬度约为2 GPa,在膜层与基体之间由于生成了Ti4Pd相,硬度增力口至U 2.8 GPa.
李争显1，张跃飞3，王宝云4，徐重1，严鹏4，王少鹏4
(1.太原理工大学,山西太原,030024;
2.西北有色金属研究院,陕西西安;
3.北京印刷学院,北京,102600;
4.西北有色金属研究院,陕西西安,710016)
摘要:利用电子显微镜、X射线衍射仪、显微硬度试验机等分析手段,对采用焊接复合式靶材,在钛表面沉积出的钯膜层进行分析研究.结果表明:钯膜层具有电弧离子镀典型特征,膜层的厚度为1.2～2 μm,膜层致密.提高膜层的沉积温度使膜层与基体之间生成Ti4Pd相.膜层的表面硬度约为2 GPa,在膜层与基体之间由于生成了Ti4Pd相,硬度增力口至U 2.8 GPa.
关键词:钛表面; 电弧离子镀; 钯膜层; 性能;
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