熔盐电沉积硅的基础研究
来源期刊：有色金属(冶炼部分)2004年第3期
论文作者：李运刚 梁精龙 蔡宗英 唐国章
关键词：硅; 电沉积硅; 熔盐; 循环伏安; 计时电位法;
摘 要：在FLINAK-Na2SiF6熔盐体系中,以Pt为参比电极、硅钢片为工作电极、石墨为辅助电极,在750℃下,用循环伏安法和计时电位法对Si4+的电化学反应机理和扩散系数进行了研究.结果表明:该熔盐体系进行电沉积硅是可行的,该体系中硅离子的还原为扩散控制的可逆电极过程,且产物不可溶;整个还原过程为Si4++4e→Si0;该熔盐体系中阴极电位不应负于-2V,否则会有Na沉积出来,从而影响沉积层质量;Si4+的扩散系数为:D=5.42×10-11m2/s(C=2.58×103mol/m3).
李运刚1，梁精龙1，蔡宗英1，唐国章1
(1.河北理工学院冶金工程系,唐山,063009;
2.东北大学材料与冶金学院,沈阳,110004)
摘要:在FLINAK-Na2SiF6熔盐体系中,以Pt为参比电极、硅钢片为工作电极、石墨为辅助电极,在750℃下,用循环伏安法和计时电位法对Si4+的电化学反应机理和扩散系数进行了研究.结果表明:该熔盐体系进行电沉积硅是可行的,该体系中硅离子的还原为扩散控制的可逆电极过程,且产物不可溶;整个还原过程为Si4++4e→Si0;该熔盐体系中阴极电位不应负于-2V,否则会有Na沉积出来,从而影响沉积层质量;Si4+的扩散系数为:D=5.42×10-11m2/s(C=2.58×103mol/m3).
关键词:硅; 电沉积硅; 熔盐; 循环伏安; 计时电位法;
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