微电子用光敏聚酰亚胺材料的分子设计研究
来源期刊：材料导报2004年第12期
论文作者：韩莉坤 唐先忠 李元勋 何为
关键词：光敏聚酰亚胺; 光敏性二胺; 羟醛缩合;
摘 要：光敏聚酰亚胺(PSPI)具有高耐热性、良好的电绝缘性、优异的机械和感光性能等,被认为是极具应用前景的光电功能材料,已成为新型功能高分子材料的研究热点.从已得到商品化的PSPI材料出发,通过材料的分子结构设计,提出了合成新型PSPI的新思路,并根据有机合成的原理,简要论述了这几种新型PSPI的制备方法及提高PSPI性能的几条途径.
韩莉坤1，唐先忠2，李元勋2，何为2
(1.电子科技大学光电子信息电子学院,新型传感器教育部重点实验室,成都,610054;
2.电子科技大学微电子与固体电子学院,成都,610054)
摘要:光敏聚酰亚胺(PSPI)具有高耐热性、良好的电绝缘性、优异的机械和感光性能等,被认为是极具应用前景的光电功能材料,已成为新型功能高分子材料的研究热点.从已得到商品化的PSPI材料出发,通过材料的分子结构设计,提出了合成新型PSPI的新思路,并根据有机合成的原理,简要论述了这几种新型PSPI的制备方法及提高PSPI性能的几条途径.
关键词:光敏聚酰亚胺; 光敏性二胺; 羟醛缩合;
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