Ni/SiO2纳米复合涂层的结构与光学性质研究
来源期刊：功能材料2004年增刊第1期
论文作者：李广海 程继贵 张立德 解挺 吴玉程
关键词：Ni/SiO2; 纳米复合涂层; 结构; 光吸收;
摘 要：采用射频磁控溅射方法制备Ni/SiO2纳米复合涂层,获得了镍成分为7.25%(at)(LNi)、13.96%(at)(MNi)、19.20%(at)(HNi)3种复合涂层,研究了该复合涂层的组织结构与光学性质.结果表明LNi纳米复合涂层的晶粒尺寸为10～15nm,随着镍含量提高,涂层的晶粒尺寸增大,纳米Ni颗粒的形状发生变化;LNi复合涂层在300～350nm存在显著的光吸收,随着晶粒尺寸增大,光吸收边发生显著的红移.
李广海1，程继贵2，张立德1，解挺2，吴玉程2
(1.中国科学院固体物理研究所,安徽,合肥,230031;
2.合肥工业大学,材料科学与工程学院,安徽,合肥,230009)
摘要:采用射频磁控溅射方法制备Ni/SiO2纳米复合涂层,获得了镍成分为7.25%(at)(LNi)、13.96%(at)(MNi)、19.20%(at)(HNi)3种复合涂层,研究了该复合涂层的组织结构与光学性质.结果表明LNi纳米复合涂层的晶粒尺寸为10～15nm,随着镍含量提高,涂层的晶粒尺寸增大,纳米Ni颗粒的形状发生变化;LNi复合涂层在300～350nm存在显著的光吸收,随着晶粒尺寸增大,光吸收边发生显著的红移.
关键词:Ni/SiO2; 纳米复合涂层; 结构; 光吸收;
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