电压对中频脉冲非平衡磁控溅射类金刚石薄膜结构与性能的影响

王俊玲¹，代海洋²

1. 河南交通职业技术学院交通信息工程系2. 郑州轻工业学院物理与电子工程学院

摘 要：制备参数对类金刚石(DLC)薄膜的性能和结构有显著影响。利用中频脉冲非平衡磁控溅射新技术制备了DLC薄膜,采用Raman光谱、X射线光电子能谱仪、纳米压痕仪、光谱型椭偏仪研究了溅射电压对DLC薄膜微观结构、力学性能和光学性能的影响。结果表明:当溅射电压由550 V增加到750 V时,DLC薄膜中sp3杂化碳含量随溅射电压的增加而增加,当溅射电压超过750 V时,薄膜中sp3杂化碳含量随溅射电压的增加而减少;DLC薄膜的纳米硬度、折射率均随溅射电压的增加先增加而后减小,溅射电压为750 V时制备薄膜的纳米硬度及折射率最大。

关键词：类金刚石膜;中频脉冲非平衡磁控溅射;溅射电压;膜结构;膜性能;