简介概要

光刻系统用氟化钙晶体的研究进展

来源期刊：无机材料学报2004年第3期

论文作者：苏良碧徐军董永军杨卫桥周国清

关键词：氟化钙; 晶体; 紫外; 光刻; 157nm; 半导体;

摘要：解释了氟化钙晶体能被应用在光刻系统和掀起研究热潮的原因,概述了氟化钙晶体的研究和发展现状,指出了目前氟化钙晶体在研究和发展过程中要解决的重要问题和措施,最后对氟化钙晶体在光刻系统中的发展前景作了展望.

详情信息展示

苏良碧¹，徐军¹，董永军¹，杨卫桥¹，周国清¹

(1.中国科学院上海光学精密机械研究所,上海,201800)

摘要:解释了氟化钙晶体能被应用在光刻系统和掀起研究热潮的原因,概述了氟化钙晶体的研究和发展现状,指出了目前氟化钙晶体在研究和发展过程中要解决的重要问题和措施,最后对氟化钙晶体在光刻系统中的发展前景作了展望.

关键词:氟化钙; 晶体; 紫外; 光刻; 157nm; 半导体;

【全文内容正在添加中】