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磁性多层膜的正巨磁电阻特性

来源期刊：功能材料2003年第6期

论文作者：都有为张栋杰

关键词：正巨磁电阻; 多层膜; 取向生长;

摘要：采用离子束溅射方法制备了正巨磁电阻多层膜,在制备过程中采用外加磁场和退火处理.在室温条件下多层膜的巨磁电阻效应达到200%～300%,并用磁矩取向的双电流导电模型对正磁电阻的机理进行了解释.

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都有为¹，张栋杰²

(1.南京大学,固体微结构国家重点实验室,江苏,南京,210093;
2.南京师范大学,分析测试中心材料科学实验室,江苏,南京,210097)

摘要:采用离子束溅射方法制备了正巨磁电阻多层膜,在制备过程中采用外加磁场和退火处理.在室温条件下多层膜的巨磁电阻效应达到200%～300%,并用磁矩取向的双电流导电模型对正磁电阻的机理进行了解释.

关键词:正巨磁电阻; 多层膜; 取向生长;

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