简介概要

纳米SiO2表面处理对质子交换膜热稳定性的影响

来源期刊:高分子材料科学与工程2013年第1期

论文作者:鲁伊恒 魏风 吕玉卫 刘伟龙 李寒旭 陈明强

文章页码:79 - 83

关键词:纳米SiO2;硅烷偶联剂;质子交换膜;热稳定性;燃料电池;

摘    要:研究了纳米SiO2在偶联剂修饰后对质子交换膜的热稳定性及热降解动力学的影响。利用热重分析(TG-DTG)在氮气气氛中,升温速率分别为5℃、10℃和20℃的条件下,采用Kissinger、Flynn-Wal-l Ozawa、Friedman和Modified Coats-Redfem方法对膜SiO2改性后的非等温动力学数据进行了分析。TG-DTG曲线显示SiO2改性后质子交换膜分解率达到10%和15%时,最低热降解温度分别为392.4℃和429.5℃,比改性前分别提高26.8℃和57.7℃。改性后质子交换膜为一步法分解,分解的温度区间为405℃550℃,热分解的表观活化能E和指前因子lnA分别为223.1 kJ/mol和31.63 min-1,分解过程属于一维扩散(D1)机理控制。

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纳米SiO2表面处理对质子交换膜热稳定性的影响

鲁伊恒1,魏风1,吕玉卫2,刘伟龙1,李寒旭1,陈明强1

1. 安徽理工大学化工学院2. 法国巴黎南大学物理化学实验室

摘 要:研究了纳米SiO2在偶联剂修饰后对质子交换膜的热稳定性及热降解动力学的影响。利用热重分析(TG-DTG)在氮气气氛中,升温速率分别为5℃、10℃和20℃的条件下,采用Kissinger、Flynn-Wal-l Ozawa、Friedman和Modified Coats-Redfem方法对膜SiO2改性后的非等温动力学数据进行了分析。TG-DTG曲线显示SiO2改性后质子交换膜分解率达到10%和15%时,最低热降解温度分别为392.4℃和429.5℃,比改性前分别提高26.8℃和57.7℃。改性后质子交换膜为一步法分解,分解的温度区间为405℃550℃,热分解的表观活化能E和指前因子lnA分别为223.1 kJ/mol和31.63 min-1,分解过程属于一维扩散(D1)机理控制。

关键词:纳米SiO2;硅烷偶联剂;质子交换膜;热稳定性;燃料电池;

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