磁光记录薄膜的偏振特性分析
来源期刊：磁性材料及器件2000年第3期
论文作者：王翔 蔡长波 胡煜 王可 谭立国 李佐宜
关键词：磁光记录薄膜; 偏振特性; 入射角; 方位角;
摘 要：光线入射至磁光记录薄膜表面时,由于其入射角和方位角不同,导致磁光薄膜的偏振特性有较大变化,本文运用电磁场理论,对磁光记录薄膜偏振特性随入射角和方位角变化进行了分析.
王翔1，蔡长波1，胡煜1，王可1，谭立国1，李佐宜1
(1.华中理工大学电子科学与技术系,湖北武汉 430074)
摘要:光线入射至磁光记录薄膜表面时,由于其入射角和方位角不同,导致磁光薄膜的偏振特性有较大变化,本文运用电磁场理论,对磁光记录薄膜偏振特性随入射角和方位角变化进行了分析.
关键词:磁光记录薄膜; 偏振特性; 入射角; 方位角;
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