无机基片表面选择性制备铜线路图形
来源期刊:材料导报2006年第11期
论文作者:路庆华 罗坚 陈东升 李梅
关键词:化学镀; 聚乙烯基吡咯烷酮; 钯; 紫外光刻; 微图形;
摘 要:介绍了一种新型的紫外光刻体系,它由包含低分子量PVP(K30)作为稳定剂的钯胶和用作光刻胶的高分子量PVP(K90)/DAS组成.通过紫外光引发DAS分解及PVP交联、乙醇显影和高温处理在玻璃基片的表面选择性固定Pd颗粒,然后通过Pd颗粒引发化学镀,得到铜线路图形.采用扫描电镜(SEM)观察并讨论了显影时间及其对图形分辨率的影响.
路庆华1,罗坚1,陈东升1,李梅1
(1.上海交通大学化学化工学院,上海,200240)
摘要:介绍了一种新型的紫外光刻体系,它由包含低分子量PVP(K30)作为稳定剂的钯胶和用作光刻胶的高分子量PVP(K90)/DAS组成.通过紫外光引发DAS分解及PVP交联、乙醇显影和高温处理在玻璃基片的表面选择性固定Pd颗粒,然后通过Pd颗粒引发化学镀,得到铜线路图形.采用扫描电镜(SEM)观察并讨论了显影时间及其对图形分辨率的影响.
关键词:化学镀; 聚乙烯基吡咯烷酮; 钯; 紫外光刻; 微图形;
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