磁光Bragg器件的不均匀偏置磁场分析
来源期刊：磁性材料及器件2000年第1期
论文作者：武保剑
关键词：Bragg器件; 磁光薄膜; 静磁波; 不均匀磁场;
摘 要：讨论了缓变不均匀偏磁场对静磁波振幅,进而对磁光Bragg器件衍射效率的影响,给出了设计适当不均匀场的理论依据.分析表明,适当的不均匀场可以明显提高静磁波振幅,提高的幅度与该点场强以及激发静磁波处的场强有关,与不均匀静磁场在其它点的具体分布无关.该结论对适当设计磁光Bragg器件的偏置磁场,提高其衍射性能等方面有指导作用.
武保剑1
(1.大唐电信成都光通信公司,四川,成都,610062)
摘要:讨论了缓变不均匀偏磁场对静磁波振幅,进而对磁光Bragg器件衍射效率的影响,给出了设计适当不均匀场的理论依据.分析表明,适当的不均匀场可以明显提高静磁波振幅,提高的幅度与该点场强以及激发静磁波处的场强有关,与不均匀静磁场在其它点的具体分布无关.该结论对适当设计磁光Bragg器件的偏置磁场,提高其衍射性能等方面有指导作用.
关键词:Bragg器件; 磁光薄膜; 静磁波; 不均匀磁场;
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