基于CETOL的中子屏蔽结构公差分析

来源期刊：机械设计与制造2012年第7期

论文作者：黄伟 孔晓玲 刘素梅 鲁明宣 于鹏

文章页码：185 - 187

关键词：公差分析;公差建模;贡献度;敏感度;

摘    要：基于CATIA下对托卡马克装置真空室中子屏蔽块的三维模型进行了公差分析。在三维实体模型的基础上,对要分析的部件进行了分割和模型简化。利用公差分析软件CETOL,根据中子屏蔽块的装配性能要求,首先确定基准,然后添加尺寸公差、几何公差等精度要求,进行装配约束,建立了公差分析模型。通过敏感度和贡献度数值查找影响公差分析结果的关键尺寸,对不合理的精度设计进行了修改,在保证装配精度的前提下,适当提高关键尺寸的精度可以避免干涉并显著提高装配精度,而适当降低非关键尺寸的公差可降低加工成本。