纳米抛光碳化硅压力对相变影响的分子动力学模拟

王桂莲¹，张广辉¹，王治国²，冯志坚¹

1. 天津理工大学天津市先进机电系统设计与智能控制重点实验室2. 桂林航天工业学院机械工程学院

摘 要：为了研究纳米抛光碳化硅时压力变化对表面的影响规律,建立了金刚石磨粒纳米抛光碳化硅的分子动力学模型,数值模拟了纳米尺度下的碳化硅抛光过程,具体分析了抛光压力线性增大过程中的配位数为1至6的原子数量的变化规律,揭示了线性改变抛光压力对被加工表面相变的影响规律,仿真结果表明:压力是诱导碳化硅相变的主要因素,当抛光压力增大时,发生相变的原子数增多,碳化硅的相变深度增加,其中配位数为1、2和4的原子数减少,配位数为3、5和6的原子数增多。

关键词：碳化硅;抛光压力;分子动力学;配位数;相变;