一种增磁装置在磁控射频溅射制备薄膜中的应用
来源期刊：功能材料与器件学报2011年第3期
论文作者：王怀义 刁训刚 王聪 郝维昌 王天民
文章页码：237 - 241
关键词：射频磁控溅射;增磁装置;沉积速率;薄膜结钩;
摘 要：为提高射频溅射成膜率,本文报道了一种配置于磁控溅射装置的射频(RF)增磁装置。基于此装置的实验结果表明,在不对原有装置作任何改动的情况下,在完全相同的溅射参数下,采用此装置可使射频溅射成膜率增大为原来的4倍左右。进而,该装置提供了一种能有效地节省溅射制备时间,改善薄膜结构的简便易行的新型手段。
王怀义1,2，刁训刚2，王聪2，郝维昌2，王天民2
1. 北京印刷学院基础部2. 北京航空航天大学物理学院
摘 要：为提高射频溅射成膜率,本文报道了一种配置于磁控溅射装置的射频(RF)增磁装置。基于此装置的实验结果表明,在不对原有装置作任何改动的情况下,在完全相同的溅射参数下,采用此装置可使射频溅射成膜率增大为原来的4倍左右。进而,该装置提供了一种能有效地节省溅射制备时间,改善薄膜结构的简便易行的新型手段。
关键词：射频磁控溅射;增磁装置;沉积速率;薄膜结钩;
