镁合金化学机械抛光中缓蚀剂的研究

来源期刊：材料导报2016年第S1期

论文作者：宋浩 杨大林 张晓婷

文章页码：541 - 1090

关键词：化学机械抛光;缓蚀剂;电化学;

摘    要：基于碱性氧化铈抛光液体系,研究了磷酸氢二纳和氟化钾两种缓蚀剂对镁合金缓蚀影响的基本规律。采用扫描电镜、X射线光电子能谱和电化学实验分析了化学机械抛光中镁合金表面微观形貌和缓蚀机理。发现:1%（质量分数）磷酸氢二纳电荷转移电阻最大为7481Ω·cm-2,电流密度最小为0.01441mA/cm²,具有最佳缓蚀能力。Na₂HPO₄在镁合金表面生成完整的钝化膜,具有很好的缓蚀能力。其缓蚀机理是:Na₂HPO₄在镁合金表面生成MgHPO₄,可以阻挡腐蚀介质向镁合金表面靠近,有效抑制了镁合金基片的腐蚀。