用于X射线光刻掩模的纳米金刚石膜成核研究
来源期刊：无机材料学报2004年第4期
论文作者：吕反修 刘志凌 李东辉 陈大鹏 叶甜春
关键词：成核; 金刚石薄膜; MPCVD; X射线光刻掩模;
摘 要：介绍了金刚石膜在下一代X射线光刻掩模中应用的必要性;通过调节衬底温度、改变生长时间、控制甲烷浓度等工艺措施,实验研究了不同参数对成核密度及成核质量的影响, 获得了高密度形核的样品;对形核后的预生长期进行了工艺优化,有效地控制了核岛的优势生长,总结出了一套优化的形核方案,即甲烷浓度4%,衬底温度700℃,形核时间14min;这套工艺不仅改善了自支撑金刚石薄膜窗口的光学性能,还有效地降低了膜的内应力.
吕反修1，刘志凌1，李东辉2，陈大鹏2，叶甜春2
(1.北京科技大学材料系,北京,100083;
2.中国科学院微电子所,北京,100029)
摘要:介绍了金刚石膜在下一代X射线光刻掩模中应用的必要性;通过调节衬底温度、改变生长时间、控制甲烷浓度等工艺措施,实验研究了不同参数对成核密度及成核质量的影响, 获得了高密度形核的样品;对形核后的预生长期进行了工艺优化,有效地控制了核岛的优势生长,总结出了一套优化的形核方案,即甲烷浓度4%,衬底温度700℃,形核时间14min;这套工艺不仅改善了自支撑金刚石薄膜窗口的光学性能,还有效地降低了膜的内应力.
关键词:成核; 金刚石薄膜; MPCVD; X射线光刻掩模;
【全文内容正在添加中】
