石英衬底上柱状多晶硅薄膜的制备
来源期刊：无机材料学报2008年第2期
论文作者：卢景霄 李瑞 李红菊 周伶俐 张丽伟
关键词：快速光热退火; 柱状结晶; 多晶硅薄膜; 多晶硅薄膜太阳电池;
摘 要：利用射频等离子体增强化学气相沉积法(RF-PECVD)在已经预沉积有非晶硅薄膜的石英衬底上低温沉积了N/I非晶硅薄膜,对样品进行了两步快速光热(RTP)退火.采用Raman、X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)和透射电子显微镜(TEM)等测试仪器对样品退火前后的结晶状况和微观形貌进行了分析.结果表明,该N/I非晶硅薄膜退火后的晶化率达到了94%左右,断面形貌为柱状结构,样品中的平均晶粒尺寸约30nm,晶粒团簇的尺寸最大约1.5um.
卢景霄1，李瑞2，李红菊1，周伶俐3，张丽伟1
(1.郑州大学,教育部材料物理重点实验室,郑州450052;
2.河南工业大学,郑州,450001;
3.新乡学院,新乡,453000;
4.新乡学院,新乡453000)
摘要:利用射频等离子体增强化学气相沉积法(RF-PECVD)在已经预沉积有非晶硅薄膜的石英衬底上低温沉积了N/I非晶硅薄膜,对样品进行了两步快速光热(RTP)退火.采用Raman、X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)和透射电子显微镜(TEM)等测试仪器对样品退火前后的结晶状况和微观形貌进行了分析.结果表明,该N/I非晶硅薄膜退火后的晶化率达到了94%左右,断面形貌为柱状结构,样品中的平均晶粒尺寸约30nm,晶粒团簇的尺寸最大约1.5um.
关键词:快速光热退火; 柱状结晶; 多晶硅薄膜; 多晶硅薄膜太阳电池;
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