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聚乙烯咪唑/POSS纳米复合质子导电材料的制备与性能研究

来源期刊:功能材料2007年第9期

论文作者:秦深 袁俊杰 万德成 浦鸿汀 杨正龙

关键词:POSS; 聚乙烯咪唑; 纳米复合材料; 化学键合; 质子导电性能;

摘    要:研究制备了一种新型基于化学键合的聚乙烯咪唑/POSS纳米复合材料(POSS-b-PVI),并获得一种基于POSS-b-PVI的磷酸掺杂高温非水体系的质子导电膜.研究表明:与纯聚乙烯咪唑薄膜相比,该纳米复合质子导电材料的可见光透过率和质子导电率等有大幅度的提高,在200℃条件下该纳米复合质子导电材料的导电率可以达到7×10-4S/cm,光学透过率可达32%.

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聚乙烯咪唑/POSS纳米复合质子导电材料的制备与性能研究

秦深1,袁俊杰1,万德成1,浦鸿汀1,杨正龙1

(1.同济大学,材料科学与工程学院功能高分子研究所,上海,200092)

摘要:研究制备了一种新型基于化学键合的聚乙烯咪唑/POSS纳米复合材料(POSS-b-PVI),并获得一种基于POSS-b-PVI的磷酸掺杂高温非水体系的质子导电膜.研究表明:与纯聚乙烯咪唑薄膜相比,该纳米复合质子导电材料的可见光透过率和质子导电率等有大幅度的提高,在200℃条件下该纳米复合质子导电材料的导电率可以达到7×10-4S/cm,光学透过率可达32%.

关键词:POSS; 聚乙烯咪唑; 纳米复合材料; 化学键合; 质子导电性能;

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