磁控溅射制备掺银TiO2薄膜的光催化特性研究
来源期刊：材料工程2005年第10期
论文作者：田风军 张辉军 刘红梅 邱成军 曹茂盛 刘鑫
关键词：薄膜; 锐钛矿相; 射频磁控溅射; 光催化活性;
摘 要：利用交流磁控溅射设备采用金属Ti靶在石英和硅衬底制备掺银TiO2薄膜,并利用SEM,XRD及吸收光谱等方法分析测试TiO2薄膜的性质,探讨了掺银对TiO2薄膜吸收光谱的影响.并通过对甲基橙溶液浓度变化研究了掺银TiO2薄膜光催化特性,分析了掺银对TiO2薄膜增强光催化作用的工作机理,研究结果表明掺银有利于TiO2薄膜对有机物的降解作用.
田风军1，张辉军1，刘红梅1，邱成军1，曹茂盛2，刘鑫1
(1.黑龙江大学,集成电路重点实验室,哈尔滨150080;
2.北京理工大学,材料科学与工程学院,北京100081)
摘要:利用交流磁控溅射设备采用金属Ti靶在石英和硅衬底制备掺银TiO2薄膜,并利用SEM,XRD及吸收光谱等方法分析测试TiO2薄膜的性质,探讨了掺银对TiO2薄膜吸收光谱的影响.并通过对甲基橙溶液浓度变化研究了掺银TiO2薄膜光催化特性,分析了掺银对TiO2薄膜增强光催化作用的工作机理,研究结果表明掺银有利于TiO2薄膜对有机物的降解作用.
关键词:薄膜; 锐钛矿相; 射频磁控溅射; 光催化活性;
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