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热处理对非晶Ni-P电镀层结构与性能的影响

来源期刊:材料保护2008年第10期

论文作者:李辉勤 王玉 袁学韬 郭金彪 孙冬柏

关键词:电沉积; 镍磷镀层; 非晶态; 热处理; 晶化; 结构; 性能;

摘    要:为进一步了解Ni-P合金电镀层的结构与性能的关系,利用X射线衍射(XRD)、透射电镜(TEM)、高分辨透射电镜(HRTEM)和显微硬度仪等,研究了P含量12.3%(质量分数)的Ni-P合金电镀层热处理前后结构的变化对性能的影响.结果表明:镀态镍磷镀层呈非晶态结构,270℃恒温10 min镀层开始晶化,析出亚稳相Ni12P5和Ni5P2,360℃亚稳相向Ni3P和Ni稳定相转变,且晶粒长大,420℃时只有Ni3P和Ni相;热处理后镀层的硬度大于非晶态镀层,300℃部分晶化析出的纳米晶弥散分布于非晶相中,镀层的硬度达到极大值,Ni3P硬质相的析出大大提高了镀层的耐磨性能.

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热处理对非晶Ni-P电镀层结构与性能的影响

李辉勤1,王玉1,袁学韬1,郭金彪1,孙冬柏1

(1.北京科技大学腐蚀与防护中心,北京,100083;
2.北京表面纳米技术工程研究中心,北京,100083)

摘要:为进一步了解Ni-P合金电镀层的结构与性能的关系,利用X射线衍射(XRD)、透射电镜(TEM)、高分辨透射电镜(HRTEM)和显微硬度仪等,研究了P含量12.3%(质量分数)的Ni-P合金电镀层热处理前后结构的变化对性能的影响.结果表明:镀态镍磷镀层呈非晶态结构,270℃恒温10 min镀层开始晶化,析出亚稳相Ni12P5和Ni5P2,360℃亚稳相向Ni3P和Ni稳定相转变,且晶粒长大,420℃时只有Ni3P和Ni相;热处理后镀层的硬度大于非晶态镀层,300℃部分晶化析出的纳米晶弥散分布于非晶相中,镀层的硬度达到极大值,Ni3P硬质相的析出大大提高了镀层的耐磨性能.

关键词:电沉积; 镍磷镀层; 非晶态; 热处理; 晶化; 结构; 性能;

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