铝合金基电沉积Ni-SiC复合镀层的结构及耐磨性研究
来源期刊：材料保护2003年第1期
论文作者：谢发勤 吴向清
关键词：电沉积; Ni-SiC复合镀层; X射线衍射谱; 耐磨性;
摘 要：利用X射线衍射技术,分析了Ni-SiC复合镀层的微观结构,同时对镀层的耐磨性能进行了研究.结果表明:(1)Ni-SiC复合镀层的结构为晶态,SiC微粒的嵌入不改变其组织结构,经过500 ℃,2 h热处理后,产生新相Ni3Si,使镀层性能下降.(2) 在300 ℃,2 h热处理条件下,Ni-SiC复合镀层体积比磨损量分别是硬Cr镀层和纯Ni镀层的31%和11.6%.
谢发勤1，吴向清2
(1.西北工业大学民航工程学院,陕西,西安,710072;
2.西北工业大学工程实践训练中心,陕西,西安,710072)
摘要:利用X射线衍射技术,分析了Ni-SiC复合镀层的微观结构,同时对镀层的耐磨性能进行了研究.结果表明:(1)Ni-SiC复合镀层的结构为晶态,SiC微粒的嵌入不改变其组织结构,经过500 ℃,2 h热处理后,产生新相Ni3Si,使镀层性能下降.(2) 在300 ℃,2 h热处理条件下,Ni-SiC复合镀层体积比磨损量分别是硬Cr镀层和纯Ni镀层的31%和11.6%.
关键词:电沉积; Ni-SiC复合镀层; X射线衍射谱; 耐磨性;
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