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石墨基体NiHCF薄膜的离子交换性能

来源期刊:稀有金属材料与工程2006年增刊第1期

论文作者:刘世斌 樊彩梅 郝晓刚 孙彦平 马旭莉 张玫

关键词:电化学控制离子交换; 铁氰化镍膜; 电沉积; 毛细化学沉积;

摘    要:以石墨为基体材料,采用电沉积和毛细化学沉积方法制备出电活性NiHCF薄膜.通过EDS和SEM考察了薄膜组成及其形貌,在1 mol/l KNO3溶液中采用电势循环可逆地置入与释放K离子,比较了不同制备方法得到的NiHCF薄膜的电活性、离子交换容量、再生性能和循环寿命;在1 mol/l(KNO3+CsNO3)混合溶液中测定了不同浓度下薄膜的伏安特性曲线,分析了薄膜对Cs+/K+的选择性.实验表明,石墨基体上制得的NiHCF膜能实现电化学控制的离子交换(ESIX)过程;两种方法制得的薄膜对Cs+均有较强的选择性,其中电沉积膜的再生速度高于化学沉积膜,而化学沉积膜的寿命高于电沉积膜.

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石墨基体NiHCF薄膜的离子交换性能

刘世斌1,樊彩梅1,郝晓刚1,孙彦平1,马旭莉1,张玫1

(1.太原理工大学洁净化工研究所,山西,太原,030024)

摘要:以石墨为基体材料,采用电沉积和毛细化学沉积方法制备出电活性NiHCF薄膜.通过EDS和SEM考察了薄膜组成及其形貌,在1 mol/l KNO3溶液中采用电势循环可逆地置入与释放K离子,比较了不同制备方法得到的NiHCF薄膜的电活性、离子交换容量、再生性能和循环寿命;在1 mol/l(KNO3+CsNO3)混合溶液中测定了不同浓度下薄膜的伏安特性曲线,分析了薄膜对Cs+/K+的选择性.实验表明,石墨基体上制得的NiHCF膜能实现电化学控制的离子交换(ESIX)过程;两种方法制得的薄膜对Cs+均有较强的选择性,其中电沉积膜的再生速度高于化学沉积膜,而化学沉积膜的寿命高于电沉积膜.

关键词:电化学控制离子交换; 铁氰化镍膜; 电沉积; 毛细化学沉积;

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