邻苯三酚红修饰碳糊电极吸附伏安法测定痕量铜
来源期刊：理化检验-化学分册2001年第2期
论文作者：郭会时 李益恒
关键词：吸附伏安法; 铜; 邻苯三酚红; 碳糊修饰电极;
摘 要：报道了采用邻苯三酚红修饰碳糊电极测定痕量铜的方法。通过在邻苯二甲酸氢钾-氢氧化钠(pH 4.5)介质中富集，Cu2+和邻苯三酚红形成络合物富集于电极表面，然后转换到0.050mol·L-1的H3PO4中，经阴极还原后再进行阳极溶出伏安法测定。Cu2+浓度在1.6×10-9～2.8×10-7mol·L-1范围内与二次导数峰电流呈线性关系，检出限达8×10-10mol·L-1。同时，对电极反应机理进行了探讨。应用于合金样的测定，取得满意的结果。
郭会时1，李益恒2
(1.广东韶关学院化学系,;
2.湘潭大学化学系)
摘要:报道了采用邻苯三酚红修饰碳糊电极测定痕量铜的方法。通过在邻苯二甲酸氢钾-氢氧化钠(pH 4.5)介质中富集，Cu2+和邻苯三酚红形成络合物富集于电极表面，然后转换到0.050mol·L-1的H3PO4中，经阴极还原后再进行阳极溶出伏安法测定。Cu2+浓度在1.6×10-9～2.8×10-7mol·L-1范围内与二次导数峰电流呈线性关系，检出限达8×10-10mol·L-1。同时，对电极反应机理进行了探讨。应用于合金样的测定，取得满意的结果。
关键词:吸附伏安法; 铜; 邻苯三酚红; 碳糊修饰电极;
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