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铂族金属化学气相沉积

来源期刊:贵金属2000年第4期

论文作者:周光月 周伟 陈志全 郑恩华 刘建 郭珊云

关键词:铂族金属; 化学气相沉积;

摘    要:化学气相沉积(Chemical Vapor Deposition,CVD)技术可用在高熔点金属如Mo、Re、W等表面制备结合力好的铂族金属涂层.用CVD法可得到具有微细晶粒的致密金属(无针孔)涂层,可制成大形状和形状复杂的制品,也可用于合金涂层的制备.本文介绍了该项技术的国外发展概况,并以高温抗氧化铱涂层(可耐受2000℃高温)为代表,叙述了铂族金属涂层的特点以及该项技术在制备涂层过程中的基本步骤,并对工艺参数等各项技术特点进行了系统评述.

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铂族金属化学气相沉积

周光月1,周伟1,陈志全1,郑恩华1,刘建1,郭珊云1

(1.昆明贵金属研究所,中国昆明,650221)

摘要:化学气相沉积(Chemical Vapor Deposition,CVD)技术可用在高熔点金属如Mo、Re、W等表面制备结合力好的铂族金属涂层.用CVD法可得到具有微细晶粒的致密金属(无针孔)涂层,可制成大形状和形状复杂的制品,也可用于合金涂层的制备.本文介绍了该项技术的国外发展概况,并以高温抗氧化铱涂层(可耐受2000℃高温)为代表,叙述了铂族金属涂层的特点以及该项技术在制备涂层过程中的基本步骤,并对工艺参数等各项技术特点进行了系统评述.

关键词:铂族金属; 化学气相沉积;

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