化学气相沉积SiO2/S复合涂层的热力学分析
来源期刊：理化检验-化学分册2008年第5期
论文作者：奚运涛 徐宏 戚学贵 周建新 刘阿龙
关键词：化学气相沉积(CVD); SiO2/S复合涂层; 热力学;
摘 要：以二甲基二硫化物(DMDS)和正硅酸乙酯(TEOS)为反应物在25Cr35Ni合金基体上化学气相沉积SiO2/S复合涂层.应用热力学势函数法对SiO2与S的生成反应以及反应产物之间的化学反应进行了热力学计算和分析,并对化学气相沉积源物质的配比选择进行了讨论.结果表明:常压下选取预热温度773 K、沉积温度1 023 K以及适当配比的源物质化学气相沉积SiO2/S复合涂层是可行的.
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摘要:以二甲基二硫化物(DMDS)和正硅酸乙酯(TEOS)为反应物在25Cr35Ni合金基体上化学气相沉积SiO2/S复合涂层.应用热力学势函数法对SiO2与S的生成反应以及反应产物之间的化学反应进行了热力学计算和分析,并对化学气相沉积源物质的配比选择进行了讨论.结果表明:常压下选取预热温度773 K、沉积温度1 023 K以及适当配比的源物质化学气相沉积SiO2/S复合涂层是可行的.
关键词:化学气相沉积(CVD); SiO2/S复合涂层; 热力学;
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