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石墨炉原子吸收光谱法测定高纯阴极铜中痕量硅的研究

来源期刊:冶金分析2003年第4期

论文作者:闻莺 高介平 刘世良

关键词:石墨炉原子吸收光谱法; 高纯铜; 硅;

摘    要:研究了用石墨炉原子吸收光谱法测定高纯阴极铜中痕量硅的方法.采用钨涂层石墨管和氟化钾作基体改进剂双重手段阻止了碳化硅的生成,解决了石墨炉测硅时生成的碳化硅干扰准确测定的难题.方法灵敏度为5.8×10-11g/1%吸收,硅测定范围为0~150μg/L,对100μg/L硅标准溶液重复测定10次,其相对标准偏差为4.41%.对含2g/L铜的高纯铜溶液测得硅回收率为98%.



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石墨炉原子吸收光谱法测定高纯阴极铜中痕量硅的研究

闻莺1,高介平1,刘世良1

(1.北京矿冶研究总院,北京,100044)

摘要:研究了用石墨炉原子吸收光谱法测定高纯阴极铜中痕量硅的方法.采用钨涂层石墨管和氟化钾作基体改进剂双重手段阻止了碳化硅的生成,解决了石墨炉测硅时生成的碳化硅干扰准确测定的难题.方法灵敏度为5.8×10-11g/1%吸收,硅测定范围为0~150μg/L,对100μg/L硅标准溶液重复测定10次,其相对标准偏差为4.41%.对含2g/L铜的高纯铜溶液测得硅回收率为98%.

关键词:石墨炉原子吸收光谱法; 高纯铜; 硅;

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