有机三阶非线性光学材料的研究进展
来源期刊：材料导报2007年第2期
论文作者：浦鸿汀 刘玲
关键词：三阶非线性光学; 表征; 极化聚合物; 进展;
摘 要：非线性光学材料在图像处理、全光开关、光学存储和记忆系统等领域有着较大的应用潜力,近年来对三阶非线性光学聚合物材料的研究成为研究工作中的热点.分类介绍了各种有机三阶非线性光学聚合物的合成、结构与性能的最新研究进展,评述了三阶非线性光学性能表征技术的研究状况,展望了有机三阶非线性光学材料的前景和存在的问题.
浦鸿汀1，刘玲1
(1.同济大学材料学院功能高分子研究所,上海,200092)
摘要:非线性光学材料在图像处理、全光开关、光学存储和记忆系统等领域有着较大的应用潜力,近年来对三阶非线性光学聚合物材料的研究成为研究工作中的热点.分类介绍了各种有机三阶非线性光学聚合物的合成、结构与性能的最新研究进展,评述了三阶非线性光学性能表征技术的研究状况,展望了有机三阶非线性光学材料的前景和存在的问题.
关键词:三阶非线性光学; 表征; 极化聚合物; 进展;
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