非晶态三氧化钼薄膜超低温制备及其电致变色特性研究

张金伟¹，刁训刚¹，王怀义¹，王天民¹，武哲²，舒远杰³

1. 北京航空航天大学理学院2. 北京航空航天大学航空科学与技术学院3. 中国工程物理研究院化工材料研究所

摘 要：在基片温度173 K的条件下,采用直流反应磁控溅射法制备MoO3薄膜。运用XRD、SEM、可见分光光度计、伏安特征曲线、拉曼光谱研究分别对薄膜的晶体结构、微观表面形貌、透射光谱特性、电致变色性能及成分进行分析,探讨了MoO3薄膜的电致变色性能和微观结构之间的关系。结果表明,超低温有利于MoO3薄膜非晶化,薄膜表面有较多的孔隙,有利于Li+的抽取,进而显示出很好的变色性能,在550 nm处着色系数达到了41.6 cm2/c,可见光400⁸00 nm范围内着色态和漂白态平均透光率差值达60%以上。Raman光谱分析发现,在拉曼位移831cm-1、952 cm-1处有强的吸收峰,其中831 cm-1处对应于O-Mo6+-O的伸缩振动模式,952 cm-1对应于Mo6+=O的弯曲振动模式。

关键词：薄膜光学;电致变色;超低温;三氧化钼;非晶态;