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低压等离子喷涂TaSi2/MoSi2涂层组织结构及性能研究

来源期刊:热喷涂技术2020年第3期

论文作者:倪立勇 杨震晓 马康智 文波 曲栋 杨杰

关键词:TaSi2/MoSi2涂层;低压等离子喷涂;高温抗氧化涂层;

摘    要:采用低压等离子喷涂技术制备了TaSi2/MoSi2涂层。通过XRD、SEM、EDS等手段分析了涂层氧化前后组织结构及相结构。结果表明,TaSi2/MoSi2涂层呈现典型的层状结构,组织结构均匀致密,孔隙率为3.1%;涂层由TaSi2和MoSi2两相组成,喷涂过程中未发生相结构转变;空气中1650℃氧化30min后,涂层表面生成致密和玻璃态SiO2保护膜,涂层具有良好的自愈合能力,表现出良好的高温抗氧化性能。

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低压等离子喷涂TaSi2/MoSi2涂层组织结构及性能研究

倪立勇,杨震晓,马康智,文波,曲栋,杨杰

航天材料及工艺研究所

摘 要:采用低压等离子喷涂技术制备了TaSi2/MoSi2涂层。通过XRD、SEM、EDS等手段分析了涂层氧化前后组织结构及相结构。结果表明,TaSi2/MoSi2涂层呈现典型的层状结构,组织结构均匀致密,孔隙率为3.1%;涂层由TaSi2和MoSi2两相组成,喷涂过程中未发生相结构转变;空气中1650℃氧化30min后,涂层表面生成致密和玻璃态SiO2保护膜,涂层具有良好的自愈合能力,表现出良好的高温抗氧化性能。

关键词:TaSi2/MoSi2涂层;低压等离子喷涂;高温抗氧化涂层;

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