O2在U和U-Nb合金表面吸附的XPS研究
来源期刊：金属学报2001年第6期
论文作者：汪小琳 刘柯钊 伏晓国 赵正平 柏朝茂 蒋春丽
关键词：O2; U; U-Nb合金; 表面吸附; X射线光电子谱;
摘 要：采用X射线光电子能谱(XPS)分析研究了298 K时O2在金属U和U Nb合金清洁表面的原位吸附过程,作为对照还研究了在纯Nb表面的吸附.吸附各阶段XPS图谱的变化揭示了O2在U,Nb和U-Nb合金表面的吸附将导致UO2,NbO和Nb2O5等多种产物形成定量分析表明,O2在U和U-Nb合金表面的饱和吸附量大约分别为45 L和40 L(1 L=L33x10-4Pa@s),而O2在金属Nb上的饱和吸附量仅约为10 L.
汪小琳1，刘柯钊1，伏晓国1，赵正平1，柏朝茂1，蒋春丽1
(1.中国工程物理研究院,绵阳,621900)
摘要:采用X射线光电子能谱(XPS)分析研究了298 K时O2在金属U和U Nb合金清洁表面的原位吸附过程,作为对照还研究了在纯Nb表面的吸附.吸附各阶段XPS图谱的变化揭示了O2在U,Nb和U-Nb合金表面的吸附将导致UO2,NbO和Nb2O5等多种产物形成定量分析表明,O2在U和U-Nb合金表面的饱和吸附量大约分别为45 L和40 L(1 L=L33x10-4Pa@s),而O2在金属Nb上的饱和吸附量仅约为10 L.
关键词:O2; U; U-Nb合金; 表面吸附; X射线光电子谱;
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