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氮化硅反应炉内弥散相介质温度分布研究

来源期刊：冶金能源2008年第3期

论文作者：王立李勋锋尹少武陈锦

关键词：氮化硅; 温度场; 产物质量浓度; 弥散相介质;

摘要：基于商用CFD计算软件模拟了氮化硅反应炉内的温度场.分析了壁面热流对温度场和产物质量浓度的影响,研究了光学厚度和散射模型对温度场的影响.计算结果表明,壁面热流决定着产物的质量浓度;光学厚度越大,辐射所起的作用越明显;散射模型不同时,对径向温度分布影响较明显,而对轴向温度分布而言,相差很小.

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王立¹，李勋锋¹，尹少武¹，陈锦²

(1.北京科技大学机械工程学院;
2.北京联合大学信息学院)

摘要:基于商用CFD计算软件模拟了氮化硅反应炉内的温度场.分析了壁面热流对温度场和产物质量浓度的影响,研究了光学厚度和散射模型对温度场的影响.计算结果表明,壁面热流决定着产物的质量浓度;光学厚度越大,辐射所起的作用越明显;散射模型不同时,对径向温度分布影响较明显,而对轴向温度分布而言,相差很小.

关键词:氮化硅; 温度场; 产物质量浓度; 弥散相介质;

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