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低压等离子喷涂厚钨涂层的组织与性能

来源期刊:材料保护2013年第2期

论文作者:杨震晓 刘敏 邓春明 陈明娟 邓畅光 车晓舟

文章页码:13 - 101

关键词:低压等离子喷涂;钨喷涂层;显微结构;孔径分布;

摘    要:为获得高致密度、高热导率及低氧含量的钨喷涂层,采用低压等离子喷涂(LPPS)技术,以4种不同工艺参数在铬锆铜基体上制备了0.9~1.2 mm钨喷涂层。用扫描电镜、氧氮分析仪及闪光导热仪研究了4种钨喷涂层的显微结构、氧含量及热导率,揭示了优化工艺制备的钨喷涂层的孔径分布,分析了喷涂功率和真空室压力对涂层的影响。结果表明,4种钨喷涂层均呈层状结构,优化工艺制备的钨喷涂层的致密度为98.4%,氧含量为0.2%(质量分数),热导率为110.76 W/(m.K),孔隙的主要孔径分布范围为0.2~4.0μm,以1.0μm左右的孔隙为主。

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低压等离子喷涂厚钨涂层的组织与性能

杨震晓1,2,刘敏2,邓春明2,陈明娟1,2,邓畅光2,车晓舟1

1. 华南理工大学材料科学与工程学院2. 广州有色金属研究院

摘 要:为获得高致密度、高热导率及低氧含量的钨喷涂层,采用低压等离子喷涂(LPPS)技术,以4种不同工艺参数在铬锆铜基体上制备了0.9~1.2 mm钨喷涂层。用扫描电镜、氧氮分析仪及闪光导热仪研究了4种钨喷涂层的显微结构、氧含量及热导率,揭示了优化工艺制备的钨喷涂层的孔径分布,分析了喷涂功率和真空室压力对涂层的影响。结果表明,4种钨喷涂层均呈层状结构,优化工艺制备的钨喷涂层的致密度为98.4%,氧含量为0.2%(质量分数),热导率为110.76 W/(m.K),孔隙的主要孔径分布范围为0.2~4.0μm,以1.0μm左右的孔隙为主。

关键词:低压等离子喷涂;钨喷涂层;显微结构;孔径分布;

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