晶粒尺寸对CVD金刚石膜电学特性的影响
来源期刊：功能材料与器件学报2006年第4期
论文作者：夏义本 史伟民 苏青峰 蒋丽雯 王林军 崔江涛 阮建锋
关键词：金刚石膜; 电学特性; 晶粒尺寸; HFCVD;
摘 要：通过改变生长参数,采用热丝化学气相沉积(HFCVD)法制备了从10μm到90nm四种晶粒尺寸的金刚石膜,并制作了三明治结构的光电导探测器.采用原子力显微镜和拉曼光谱仪研究了薄膜的结构和表面形貌:表面粗糙度从423nm变化到15nm;晶粒越大,金刚石膜的质量越好.I-V特性测试结果表明随着晶粒尺寸的减小,金刚石膜的电阻率从1011Ω·cm减小到106Ω·cm.在5.9 keV的55Fe X射线辐照下,随着晶粒尺寸的减小,探测器的信噪比(SNR)呈减小趋势.
夏义本1，史伟民1，苏青峰1，蒋丽雯1，王林军1，崔江涛1，阮建锋1
(1.上海大学材料科学与工程学院,上海,200072)
摘要:通过改变生长参数,采用热丝化学气相沉积(HFCVD)法制备了从10μm到90nm四种晶粒尺寸的金刚石膜,并制作了三明治结构的光电导探测器.采用原子力显微镜和拉曼光谱仪研究了薄膜的结构和表面形貌:表面粗糙度从423nm变化到15nm;晶粒越大,金刚石膜的质量越好.I-V特性测试结果表明随着晶粒尺寸的减小,金刚石膜的电阻率从1011Ω·cm减小到106Ω·cm.在5.9 keV的55Fe X射线辐照下,随着晶粒尺寸的减小,探测器的信噪比(SNR)呈减小趋势.
关键词:金刚石膜; 电学特性; 晶粒尺寸; HFCVD;
【全文内容正在添加中】
